一直以来，半导体芯片都是国产技术中的薄弱点，特别与美国等发达国家相比，更是差距显明。其实早在上个世纪五十年代，咱们国内就开始发展半导体技术了，那么为何直到现在国产芯片还是不能突起呢？
国内的芯片技术之所以和国外有差距，主要是由于两个方面的不足：第一个不足的地方在于缺乏先进装备的支持，而第二个不足的方面则是人材的短缺。
自古以来，人材始终是技术领域的基础，如果没有足够的人材，或者不注重人材培育的话，那么任何一个国家在技术方面都不会有太大造诣。现在咱们国内的人材缺失情况就很严重，然而这其实不是短期内就能解决的问题，需要累积和培育。
所以，咱们今天谈论的其实不是人材，而是先进的装备。大家都知道，一个芯片成品的诞生，需要经由设计、生产、封装以及测试四个步骤。在芯片的设计、封装及测试方面，咱们国内的技术实力都很不错，乃至有些领域还达到了世界顶尖的水准。
例如华为旗下的海思半导体就是一家卓越的芯片设计公司，在全世界规模内都无比知名。然而惟独在芯片的生产方面，国内的技术还达不到请求，并且离国外顶尖水平相差甚远。
为何国内没法生产出高水平的芯片呢？这主要是由于缺乏光刻机的支持，而这台机器则是芯片生产过程当中的必须品！目前全球最早进的光刻机技术集中在荷兰的ASML公司，只有它能生产出顶尖的光刻机，并且每一年的产量还少得可怜！
在这类情况下，每一台光刻机的价格都突破了1亿美元，乃至达到了1.2亿美元一台，可以说是“天价“。但即便是这样，全世界各大公司还是趋之若鹜，由于它的产量太少了，有时候有钱都不一定能买得到。
那么1.2亿美元一台的光刻机，究竟有多难呢？咱们国内什么时候才能造出高端光刻机呢？其实光刻机不是难不难造的问题，而是你能否同时掌握那么多种人类最顶尖的技术的问题，由于光刻机恰是这些顶尖技术的复合体！
这些顶尖技术包含但不但限于光学技术、刻蚀技术以及薄膜层积技术等等。一个国家想要同时掌握这么多顶尖技术实在是太难题了，就连一贯自夸为科技强国的美国都做不到。
至于ASML公司为何能掌握，是由于它是聚拢了整个欧洲和美国的气力，这自然要比一个国家的科技实力强大得多。所以说，咱们国内能研究出原枪弹，然而不一定能造出高端光刻机，其中的难度超乎咱们的想象。
不过在中低端光刻机领域，国产技术还是值得认可的，毕竟咱们起步比国外晚，而且还是一直自食其力。目前国内的光刻机技术已经达到了28nm，出自于上海微电子，预计明年就能够交付使用给了。
毫无疑难，这是一个还不错的音讯，然而国内想要造出高端光刻机，就不知道还要等多久了。如果继续这样突破下去，可能只需要几年，然而一旦堕入瓶颈的话，这时候间就会成倍地增长，乃至是造不出来都有可能！
尽管技术很难，然而咱们还是不能失去信念，如果连咱们自己都不相信能胜利的话，那么就永久造不出高端光刻机了。相信在国内科研人员的努力下，国产高端光刻机总有一天会出现在大家的面前！
对于国内什么时候能造出高端光刻机，你们如何看呢？
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